> @jaguring1: ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に

> https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/articles/2111/01/news153.html

> 「ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表」

>

> 「ASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという」